Brief Communication ヒト胚幹細胞の後成的な状態 2005年6月1日 Nature Genetics 37, 6 doi: 10.1038/ng1556 ヒト胚幹細胞の後成的な状態を評価するために、6つのインプリント遺伝子の対立遺伝子特異的な発現と、3つのインプリンティング調節領域のメチル化パターンを調べた。その結果、通常の単一対立遺伝子性の遺伝子発現と、正常な場合のメチル化パターンが同定された。長期にわたる継代培養の間には、1つの細胞株がH19に関して両対立遺伝子性の発現になったが、配偶子性のメチル化インプリンティングの消失はなかった。これらのデータは、ヒト胚幹細胞における後成的な安定性が十分な程度であることを主張するものである。 Full text PDF 目次へ戻る
