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光線過敏症の研究から、転写と共役したDNA修復の新しいコファクターが明らかになる

Nature Genetics 44, 5 doi: 10.1038/ng.2255

3つの研究チームが、全エキソーム配列決定やプロテオーム配列決定を利用して、損傷を受けた鋳型での転写の回復に必要な、ヒトRNAポリメラーゼIIの新しいコファクターを同定した。転写調節や除去修復の分子機構と、発達障害、神経疾患、非悪性皮膚光線過敏症との関係が問い直された。
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