ナノスケール材料：興味深い高指数ファセットの成長

銅やニッケルの大面積単結晶高指数薄膜は、有望な技術として関心が集まっているが、そうした高指数薄膜の成長は動力学的にも熱力学的にも不利で、薄膜のファセットは通常、低エネルギーで低指数であるため、その作製は困難である。今回K Liuたちは、金属薄膜の表面を酸化させてから還元雰囲気中でアニーリングするという成長方法を提案している。この手法では、表面エネルギー最小化は結晶成長でのファセット選択の主要な決定要因にはならず、最も大きな結晶粒が成長して隣接する小さな結晶粒を消費していく。今回の薄膜は、二次元材料のエピタキシャル成長の基板としても用いられる。

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